|
| Merknaam: | HUAMEI |
| Modelnummer: | Siliconen release -film |
| Moq: | 6200 vierkante meter |
| Prijs: | 0.24-1.64/㎡ |
| Betalingsvoorwaarden: | L/c, d/p |
| Leveringsvermogen: | 300000m elke dag |
| Attribuut | Waarde |
|---|---|
| Naam | Laminatie Film |
| Antistatische Behandeling | Enkel/Dubbelzijdige behandeling |
| Kleur | Transparant |
| Breedte | Aangepast aan de behoeften van de gebruiker |
| Lengte | Aangepast aan de behoeften van de gebruiker |
| Dikte | 50 of aangepast |
| Release Kracht | 12-25 |
| Residuele hechtingsgraad | ≥90 |
Dit product is gemaakt van PET-substraat met hoge vlakheid, hoge temperatuurbestendigheid en lage oriëntatiehoek, en is aan het oppervlak gecoat met een ultradunne formule voor het vrijgeven van polarisatiefilm. Voornamelijk gebruikt voor polarisatiefilm en coating van polarisatiefilm beschermfolie.
1. OLED Paneel Bescherming Tijdens Productie
Fungeert als een beschermlaag voor OLED-schermen tijdens de productie, waardoor krassen, stofhechting en elektrostatische ontlading (ESD) worden voorkomen die gevoelige organische materialen kunnen beschadigen. De antistatische eigenschappen elimineren statische opbouw, wat cruciaal is voor het behoud van de integriteit van de dunne-filmtransistoren (TFT's) van OLED. Zorgt voor schoon afpellen zonder resten achter te laten, cruciaal voor het behoud van de optische helderheid van OLED-displays.
2. Hantering van Optische Componenten
Gebruikt als een dragerfilm voor precisie stansen van OLED optische lagen (bijv. polarisatoren, aanraaksensorfilms). De antistatische eigenschappen voorkomen verkeerde uitlijning veroorzaakt door stof of statische elektriciteit tijdens het snijden en stapelen. Ondersteunt vacuümdepositieprocessen door metalen elektroden (bijv. ITO-lagen) te beschermen tegen verontreiniging.
| Project | Eigenwaarden |
|---|---|
| Membraan | Grondstoffen |
| Kleur | Transparant |
| Breedte(mm) | Aangepast aan de behoeften van de gebruiker |
| Lengte(mm) | Aangepast aan de behoeften van de gebruiker |
| Dikte(μm) | 50 |
| Release Kracht(g/in) | 1-50 |
| Residuele hechtingsgraad(%) | ≥ 85 |
| Scheidingsbehandeling | Enkelzijdige behandeling |
| Antistatische behandeling | Enkel/Dubbelzijdige behandeling |
| Oppervlakteweerstand(Ω*m) | 10^5-10^9 |
| Conventioneel bereik van het type stroom | 2 ±1,4±1,20±5,40±10 |